第七百二十五章 開研討會

　　“沒想到，新設(shè)備第一次光刻測試就成功了，姜教授他們這些人真是牛。”

　　“那是當(dāng)然，光刻機研發(fā)實驗室是咱們維創(chuàng)電子公司和ZK院半導(dǎo)體研究所、深鎮(zhèn)大學(xué)，共同合作建立的，里面工作的研究員，學(xué)歷最低的也是碩士研究生，能不厲害嗎?！?p>　　“芯片生產(chǎn)線最核心的設(shè)備光刻機研發(fā)成功了，其他相關(guān)設(shè)備的研發(fā)難度就低多了，也許咱們維創(chuàng)電子公司有一天，可以生產(chǎn)整條芯片生產(chǎn)線上的所有設(shè)備。”

　　“沒那么容易，整條芯片生產(chǎn)線上的設(shè)備太多了，咱們維創(chuàng)電子不可能分心生產(chǎn)這么多的東西?！?p>　　“第一次光刻測試，產(chǎn)品合格率就達到了68.7%，再做一些參數(shù)優(yōu)化，將合格率提升到70%、80%，也不是不可能。

　　接下來，劉焱和姜安平等人去食堂吃了一餐遲來的午飯，然后返回?zé)o塵車間，對光刻機進行進一步的測試，包括極限加工精度測試，最高光刻速度測試，長時間壓力測試等等。

　　此后半個月，又有兩臺維創(chuàng)電子自產(chǎn)的一微米光刻機加入測試，隨著設(shè)備參數(shù)的不斷修改優(yōu)化，一些零配件的小修小改，生產(chǎn)的芯片合格率已經(jīng)提升到了81%。作為一家剛剛成立不到半年的晶圓工廠，這個合格率已經(jīng)相當(dāng)高了。

　　11月中旬，維創(chuàng)電子公司和ZK院、深鎮(zhèn)大學(xué)，合作研發(fā)的一微米光刻機正式定型量產(chǎn)。

　　為此，三家單位特意舉行了一個表彰大會，還叫來了幾名報刊雜志和電視臺的記者，對此進行報道。在這次的表彰大會上，對光刻機研發(fā)小組全體成員進行了通報嘉獎，所有人都獲得了維創(chuàng)電子公司提供的一萬到十萬不等的獎金。

　　在改開之初的八三年，RMB非常的堅挺，萬元戶在深鎮(zhèn)也是鳳毛麟角的存在。如今一大批搞光刻機研發(fā)的技術(shù)人員，輕輕松松成為萬元戶，甚至十萬元戶，造成的轟動效果可想而知。

　　消息見報不到一周，維創(chuàng)電子公司就接到了五臺一微米光刻機訂單，都是國內(nèi)的幾大電子研究所訂購的，用于國產(chǎn)芯片的研發(fā)制造。

　　劉焱當(dāng)初投資研發(fā)光刻機，本來就沒想過依靠它盈利，量產(chǎn)型號的光刻機，對外售價只有2百萬RMB。這個價格只有國外同類產(chǎn)品的三分之一左右，可謂是物美價廉。

　　可惜這年月，國內(nèi)的晶圓工廠大多不成氣候，后續(xù)訂單就算有，也不會有太多。好在維創(chuàng)電子公司自己就有晶圓工廠，且盈利豐厚，只要自產(chǎn)光刻機能完美替代進口產(chǎn)品，且能跟隨摩爾定律不斷升級進化，花再多的研發(fā)資金也是值得。

　　表彰大會之后，劉焱召集全體光刻機研發(fā)室實驗室成員，召開了一個研討會，對下一步的研發(fā)計劃和研發(fā)方向進行了部署。

　　劉焱代表維創(chuàng)電子公司率先發(fā)言，說道：

　　“一微米光刻機已經(jīng)研發(fā)成功，并定型量產(chǎn)，在座的諸位功不可沒。但這一切都已經(jīng)是過去式，接下來，咱們要在一微米光刻機的基礎(chǔ)上，再接再厲，研發(fā)0.5微米制程的光刻機。我代表維創(chuàng)電子公司表個態(tài)，不管研發(fā)過程中遭遇怎樣的困難，需要投入幾億，十幾億，甚至幾十億的研發(fā)資金，我們維創(chuàng)電子也在所不惜。接下來，有請姜教授就下一代光刻機研發(fā)計劃，做一下總體規(guī)劃?！?p>　　姜安平拿出一份手寫的稿子，清了清嗓子說道：

　　“當(dāng)初劉老板提供的光刻機研發(fā)資料中，有一份0.5微米光刻機研發(fā)概要，點明了幾個研發(fā)要點，包括光源，透鏡系統(tǒng)，雙工臺，掩模臺等等。

　　其中雙工臺、掩膜臺、控制系統(tǒng)、晶圓傳輸系統(tǒng)，可以通過一微米光刻機的相關(guān)部件進行升級改造達成，難度不是太大。

　　但為了達到0.5微米的加工精度，光源系統(tǒng)和透鏡系統(tǒng)需要重新設(shè)計，重新打造，這個難度不是一般的大?！?p>　　烏光輝跟著發(fā)言道：

　　“我是搞激光技術(shù)出身，在光刻機光源方面有一定研究。光刻分辨率想要達到0.5微米，光源波長需要達到365nm以下，且對光源強度和均勻度都有非常嚴(yán)格的要求。咱們在一微米光刻機上使用的高壓汞燈，理論上其極限能達0.35微米的加工精度，但需要對其結(jié)構(gòu)進行徹底的改造，且越是接近極限，越難以達成。

　　而被業(yè)界普遍認(rèn)定是下一代光刻機光源的KrF（氟化氪）準(zhǔn)分子激光，光源波長為248nm，可以使最小工藝節(jié)點提升至350-180nm水平。當(dāng)今世界上，很多激光相關(guān)的研究所，都在對準(zhǔn)分子激光進行研發(fā)，進度參差不齊，達到實用水平的，一個都沒有。

　　我的建議是，在光刻機光源方面，兩種線路同時研發(fā)，哪個率先取得突破，下一代0.5微米光刻機上，就使用哪一種光源?！?p>　　一位光學(xué)方面的專家發(fā)言道：

　　“光源波長越短，傳播過程中越容易被透鏡吸收。下一代0.5微米光刻機，如果依舊使用高壓汞燈當(dāng)光源，使用現(xiàn)在的透鏡組合就足夠了，頂多加工精度再提高一些。如果使用準(zhǔn)分子激光做光源，透鏡系統(tǒng)就需要推倒重做，組合里至少增加兩枚玻璃透鏡，參數(shù)也要重新設(shè)計，還有鍍膜材質(zhì)也要重新開發(fā)。這方面研究需要盡快提上日程，如果開發(fā)新透鏡組合，需要的計算量非常的大，使用普通計算機計算，需要的時間會非常長，我建議咱們使用ARM1芯片，組裝一臺超級計算機出來?！?p>　　一位深鎮(zhèn)大學(xué)教計算機的教授，推了推眼鏡出聲道：

　　“超級計算機確實是個好東西，咱們很多研發(fā)中的項目涉及到大量數(shù)據(jù)計算和模擬測試，如果咱們實驗室有一臺超級計算機，可以把研發(fā)速度提高很多。

　　維創(chuàng)電子公司晶圓工廠出產(chǎn)的ARM1芯片，是世界上第一款精簡指令集芯片，以10萬晶體管數(shù)量，提供了遠(yuǎn)超80286芯片的性能，在功耗上，也只有后者的三分之一左右，是制作超級計算機的最優(yōu)芯片。