第二百四十二章 榜單

　　公司現(xiàn)在研發(fā)的半導(dǎo)體設(shè)備，就是第三代光刻機(jī)。

　　在這里，有必要介紹一下光刻機(jī)的發(fā)展歷程。

　　首先是光刻機(jī)的代際劃分，其實(shí)是按光源算的，波長(zhǎng)越短越先進(jìn)。第一二光刻機(jī)分別是接觸、接近式光刻機(jī)，光源是不同類型的汞燈，但一個(gè)產(chǎn)品不良率高，一個(gè)要用到介質(zhì)容易影響成像，都不太理想。

　　直到第三代，光源改成了氟化氪準(zhǔn)分子激光，工作方式變成了掃描投影光刻。一旦完成研發(fā)，制程最低將縮小到...