第三十八章 ?兩種光刻技術的發(fā)展前景

　　　　也就如蘇浩所說的，這個問題本身就問的不對，但他是故意如此的。

　　沒有絕對的答案，是個具有探討性的問題。

　　光說一個答案解答不了，需要回答兩個以上，才能夠解答這個問題。

　　他如此問，也是在確定，如果蘇浩能夠回答，說明他真的要找的蘇浩。

　　作為物理學老師，能夠說上一個就驚奇了，畢竟不是教學剛需。

　　而說上兩個……那也只能說明，他對這方面頗有研究。

　　這個問題涉及的方位之廣，所需探討的問題之深，不對光刻領域有所研究，還真不能回答得好。

　　蘇浩也不再虛的，有系統(tǒng)這個輔助在，他曾幾何時慌過了？

　　迎著顏老和柳小峰的注視，蘇浩氣定神閑的凝聲說：“我的回答是……”

　　“電子束曝光技術。”

　　聽到回答的柳小峰，先是一愣旋即輕輕搖頭。

　　顏老在旁略微皺起眉，壓低聲反問：“怎么，說得不對？”

　　“顏老，他……”柳小峰剛欲要說些什么，蘇浩就開口打斷：“先讓我把話說完。”

　　柳小峰和顏老，這才恍然回神，禮貌性的表示抱歉，示意他繼續(xù)說下去。

　　不論答案正不正確，如果他說得夠多，那也能證明他知道的不少，不能因為一兩句話就否定。

　　“電子束曝光技術，對于你們來說興許不太行，但以國內整體來說，發(fā)展的前景很大?！?p>　　“相信你們自己也知道，光刻技術從誕生之初便被國外巨頭給壟斷?！?p>　　“我們現(xiàn)在擁有的光刻技術，是人家?guī)资昵熬屯媸Ｏ碌牧?，雖然很無奈……%卻是事實?！?p>　　“從廣義上的先進概念來說，離子束光刻是目前世界領域上最先進的，能夠進入20nm領域?！?p>　　“當然，你們若要說，海外光刻巨頭，能夠進入10nm領域，那我們還是別聊了。”

　　哪里就說話了?。「緵]有質疑什么好吧！

　　瞅著蘇浩攤手表示，沒得談的樣子，讓顏老有些無語，卻也表示：“你繼續(xù)說?！?p>　　看了眼柳小峰，他也沒有出聲制止，顯然也是認同這些話，那蘇浩就繼續(xù)說了。

　　“離子束光刻，目前還在研究階段，并沒有投入廣泛的使用當中。”

　　“在全球……不對，在國內領域中，離子束光刻，也僅僅是個概念?！?p>　　“以你那問題的角度來說，”蘇浩看了眼柳小峰，繼續(xù)道：“我把局限放在國內?！?p>　　“以國內光刻領域來說，技術和資源都被國外卡脖子，沒有很大的實際進展?！?p>　　“電子束曝光技術，可以說是國內能夠接觸，使用最廣泛和用來研究的。”

　　說到此，柳小峰撇了撇嘴，出言打斷說：“電子束曝光技術，最小不過100nm。”

　　“蘇浩先生，雖然光刻技術被壟斷，卻也不見得我們連100nm都突破不了吧？”

　　“你用電子束曝光技術，就把我們國內的科研人員，全部給打壓……不合適吧？”

　　言語雖輕，卻有嘲諷之意，讓蘇浩有些不爽，沒好氣的瞪了眼過去。

　　“問是你問的，回答是我說的，你若想知道，我為何這么說，那你就閉嘴！”

　　“不愿意聽，那還是別說了，我可非常謝你們把我從源天霸手中救出來呢！”

　　瞅著蘇浩如此不客氣的出言挑釁，這讓柳小峰眼色瞬間陰沉下來，想反駁卻有道理。

　　是他說話打斷在先，并且說的話也的確在理，國內的光刻領域……還真就沒好前景。

　　“小峰，少說兩句，讓蘇浩先生把話說完?！鳖伬显谂砸彩怯行┎豢蜌獾牟粣偂?p>　　柳小峰的不悅，頓時就消散了，略微點頭表示抱歉，示意蘇浩繼續(xù)說下去：“我聽著?！?p>　　“話說到哪里了？搞得我都有些亂了?！庇f些什么，卻不知道說到哪里了。

　　顏老出言提醒道：“電子束曝光技術，最小不過100nm，之后呢？”

　　“啊對！”蘇浩一拍手想起來了，簡單理一理思緒后，繼續(xù)說。

　　“電子束曝光技術，對于國外來說是幾十年前的技術了，對國內來說卻是個全新領域?！?p>　　“經過不少前輩的潛心研究，在電子束曝光技術中，衍變開發(fā)出了一種新技術?！?p>　　“圓形電子束光刻！”聽到此的柳小峰，忍不住驚呼了出聲：“蘇浩先生，此話怎講？！”

　　圓形電子束光刻，極限分辨率能達到大于10nm，對于國內的光刻領域來說，是個過山車似的突破！

　　電子束曝光技術，極限分辨率也不過才100nm，從其中衍變出來的技術，卻能達到大于10nm！

　　還真別說，這個技術，還真是國內，乃至國外的行業(yè)巨頭，也在研究的技術之一。

　　這是在，沒有外國專家的幫助下，國內的科研大佬自己摸索出來的。

　　與其說，圓形電子束光刻，乃是國內最為先進的光刻技術。

　　倒不如說，電子束曝光技術，才是國內最為先進的技術搖籃。

　　這個回答也沒有毛病，因為兩種光刻技術，都從兩個層面上，回答了所提問的問題。

　　“沒錯，”迎著柳小峰點頭，能夠說出圓形電子束光刻，說明也是有所涉及，那還有得聊。

　　“雖然圓形電子束光刻，能夠讓國內光刻領域，進入大于10nm時代，卻是極其不穩(wěn)定的技術?！?p>　　“這方面所涉及的東西太多了，我就不一一和你們說了，我挑重點說?！?p>　　“從電子束曝光技術衍變出來的技術，乃都是采用直接寫的技術，在掩膜版的制備過程占據主要地位?！?p>　　“但也正因為這兩種技術都基于直接采寫，所以曝光的速度會很慢很慢，在大體上屬于中看不中用吧?！?p>　　“最為關鍵的是，電子束的轟擊襯底也會殘生缺陷，一個不好所有投資就是打水漂?！?p>　　“綜體來說，這兩種技術雖然不大實用，卻也是國內目前拿得出手，并且是成熟的技術?！?p>　　“若非要說的話，納米激光技術也必須排的上名號，但這種技術對于國內而言，還言之過早?！?p>　　說到此，柳小峰不由得，再次打斷蘇浩的話，他有些詫異的反問。

　　“我是問，國內最先進的技術?！?p>　　“并不是問你，國內光刻技術的發(fā)展前景。”

　　雖然回答讓他們很滿意，可卻沒徹底回答，到底是什么技術。