前世雖然Nikon憑借技術(shù)實力和資金實力先后研制成功F2準分子激光器和浸沒式光刻技術(shù)，生產(chǎn)成功浸沒式光刻機，但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)更新?lián)Q代迅速，導(dǎo)致Nikon光刻機的可靠性能始終落后于ASML，從此，全球高端光刻機龍頭Nikon逐漸敗給了全球光刻機新霸主ASML。
前世由于ASML獨有的EUV光源無人能夠研制，國內(nèi)光刻機光源生產(chǎn)公司的技術(shù)沒有競爭力，以美國為首的西方國家并沒有限制ArF準分...