離開了這里，羅晟和幾個技術(shù)負(fù)責(zé)人來到了隔間的一間會議室再做討論。
一位友商伙伴的技術(shù)代表負(fù)責(zé)人發(fā)言道：“獲取波長13.5納米的光是實現(xiàn)EUV光刻的一個重要步驟，激光等離子體極紫外光源由于其功率可拓展的特性，成為了極紫外光刻最被看好的高功率光源解決方案。”
“但時間表延后有兩大原因，一是所需要的光源功率暫時還無法達到250瓦的工作功率需求，二是光學(xué)透鏡、反射鏡系統(tǒng)對于光學(xué)精...
離開了這里，羅晟和幾個技術(shù)負(fù)責(zé)人來到了隔間的一間會議室再做討論。
一位友商伙伴的技術(shù)代表負(fù)責(zé)人發(fā)言道：“獲取波長13.5納米的光是實現(xiàn)EUV光刻的一個重要步驟，激光等離子體極紫外光源由于其功率可拓展的特性，成為了極紫外光刻最被看好的高功率光源解決方案。”
“但時間表延后有兩大原因，一是所需要的光源功率暫時還無法達到250瓦的工作功率需求，二是光學(xué)透鏡、反射鏡系統(tǒng)對于光學(xué)精...